[實用新型]導軌式流延裝置

無效

• 申請號: 00255130.6
• 申請日: 2000-09-21
• 公開（公告）號: CN2448049Y
• 公開（公告）日: 2001-09-12
• 發明（設計）人: 郭有亭;祝翌
• 申請（專利權）人: 深圳南虹電子陶瓷有限公司
• 主分類號: H05K13/00
• 分類號: H05K13/00
• 代理公司: 深圳市專利服務中心
• 代理人: 王雄杰

本實用新型涉及一種流延裝置，尤其是片式電子元件的漿料薄膜迭層流延裝置。

當代科技的進步和發展，對電子元器件產品的集成化和微型化提出了更高要求，現有片式元件的基本加工方法可分為干法和濕法兩大類：干法是先將漿料加工成一定厚度的干式漿料薄膜，然后逐層迭加，再經等靜壓方法將其壓合成一體，這種方法存在的缺點是效率低，同樣迭層時的尺寸大，難以進一步地微型化，且設備投資較高。濕法是使用一塊基板，經由高速運動的兩段皮帶傳動，使之以較高速度在以平流形態不間斷流動的漿料水幕下勻速經過，從而在基板上流延上一層均勻的漿料薄膜，經烘干后再次流延，根據需要，經幾十次流延生產出合格產品，再經切割后得到所要求的元件尺寸，這種方法的優點是效率高，同樣迭層時的尺寸相對較小。但現有技術存在的缺點是：1、皮帶高速運動時會產生皮帶跳動以及由于在兩段皮帶中間一即漿料水幕下方裝有一個“過橋”，基板經過“過橋”時產生摩擦阻力，致使每層基板不可能以理想的勻速運動，因而每層薄膜的厚度偏差波動較大(通常達到4um以上)，經幾十層累積，整塊基板上的膜層厚度偏差較大，使得所生產的電子元件最終尺寸差別較大，進而影響后續工序的正常進行；2、由于皮帶靠磨擦力帶動基板運動，要求流延裝置的整體長度較長，一般達到3米以上；3、由于漿料水幕不斷的流到過橋上，使得基板下表面不斷沾上漿料，從而影響后續基板膜層的內部電路制作及切割工序的安全性。

本實用新型的目的意在克服上述現有技術的不足，提出一種漿料流延薄膜均勻、漿料不易沾到基板下表面且流延裝置尺寸較小的一種新型導軌式流延裝置。

實現上述目的的技術方案：一種導軌式流延裝置，包括送板裝置、漿料斗、接板裝置和導軌裝置，漿料斗在送板裝置和接板裝置之間的上方，導軌裝置置于送板裝置和接板裝置的一側、導軌裝置由支架、固定在支架上的導軌、導軌上的滑動裝置組成，由電機傳動的滑動裝置上有基板固定裝置。

滑動裝置是具滑輪的回轉擺動氣缸，回轉擺動氣缸的擺臂上固定的基板固定裝置是吸附基板的吸盤，吸盤接真空發生器。

電機經鏈條傳動滑動裝置。

本實用新型明顯的技術效果在于：1、由于采用導軌，保證基板高速經過漿料水暮時能保持相當準確的勻速運動，因而保證每次流延到基板上的漿料薄膜的厚度保持相當均勻，一般情況下每層薄膜的厚度差可達到1um以內的精度；2、由于基板被真空吸盤吸附，保證基板在加速運動時可以達到較高的加速度而不會脫落；3、由于影響薄膜厚度的運行距離很短，可以使整個裝置由啟動送板經高速再到接板的總體距離可以縮短到2～2.5米；3、由于基板被真空吸盤在下面托住，基板下表面不會直接與漿料接觸，基板下表面不會沾上漿料，保證了后續內部電路制作及切割時的安全性。

下面通過實施例對本實用新型作進一步的說明。

圖1是本實用新型的一種結構示意圖。

圖2是圖1的A-A視圖。

圖3是圖1的俯視圖。

實施例：參照圖1～圖3，一種導軌式流延裝置，由送板裝置5、漿料斗8、接板裝置10和導軌裝置組成，均采用鏈輪傳動的送板裝置5和接板裝置10之間的上方位置固定有漿料斗8，由支架14、固定在支架14上的導軌(7、13)、導軌上的滑動裝置組成的導軌裝置置于送板裝置5和接板裝置10的一側，置于導軌13上，由電機3經鏈條(4、9)傳動的滑動裝置是具滑輪的90度回轉擺動氣缸2，回轉擺動氣缸2的滑輪在導軌上滑動，回轉擺動氣缸2上具擺臂12，擺臂12上固定的基板固定裝置是吸附基板的吸盤11，吸盤11接真空發生器15。

當流延基板6到達送板裝置5時，90度回轉擺動氣缸2帶動擺臂12由垂直抬高到水平狀態，真空吸盤11將基板6頂起并啟動真空發生器將基板6吸住，之后，電機3通過鏈條(4、9)帶動擺臂12和擺動氣缸2等滑動裝置沿直線導軌(7、13)加速運動，當進入漿料斗8下面的漿料水幕時恒速運動，從而在基板6上流延一層均勻的漿料薄膜。當離開漿料斗8后減速運動，到達接板裝置10后，擺臂12落下，基板6自然放到接板裝置10上，然后，滑動裝置由電機3帶動回到送板裝置5處，準備下一次流延。

本實施例中的滑動裝置采用具滑輪的回轉擺動氣缸，回轉擺動氣缸的擺臂上固定的基板固定裝置是吸附基板的吸盤，吸盤接真空發生器。除此而外，也可采用其它只要能在導軌上滑動，回復時不經過漿料水幕并能水平固定住基板的滑動裝置。如：滑動裝置可以是杠桿擺動裝置或伸縮臂裝置，基板固定裝置可采用夾緊機構或磁力吸附裝置等。