[發明專利]制備吡啶衍生物的方法有效
| 申請號: | 00128383.9 | 申請日: | 2000-11-28 |
| 公開(公告)號: | CN1297887A | 公開(公告)日: | 2001-06-06 |
| 發明(設計)人: | H·希爾博特;F·霍夫曼-艾默瑞;G·瑞姆勒;M·羅杰斯-埃文斯;H·W·斯塔爾;P·沃得梅爾 | 申請(專利權)人: | 弗·哈夫曼-拉羅切有限公司 |
| 主分類號: | C07D213/74 | 分類號: | C07D213/74;C07D213/80 |
| 代理公司: | 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 | 代理人: | 杜京英 |
| 地址: | 瑞士*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 制備 吡啶 衍生物 方法 | ||
1.一種生產下面式Ⅰ化合物及其可藥用酸加成鹽的方法
其中
R1是可任選被低級烷基、低級烷氧基、鹵素或三氟甲基取代的低級烷基或芳基;
R2和R2’各自獨立地是氫、鹵素、三氟甲基、低級烷氧基或氰基;或
R2和R2’可以一起是-CH=CH-CH=CH-,其可任選被低級烷基或低級烷氧基取代;
R3/R3’各自獨立地是氫、低級烷基或與連接它們的碳原子一起形成環烷基;
R4是氫、低級烷基、-N(R5)2、-N(R5)(CH2)nOH、-N(R5)S(O)2-苯基、-N(R5)S(O)2-低級烷基、-N=CH-N(R5)2、-N(R5)C(O)R5或環狀叔胺基團
R5是各自獨立地是氫、低級烷基、或芐基,其可任選被低級烷基取代;
R6是氫、羥基、低級烷基、-(CH2)nCOO-低級烷基、-N(R5)CO-低級烷基、羥基-低級烷基、氰基,-(CH2)nO(CH2)nOH,-CHO,或5-或6元雜環基,其可任選經由亞烷基連接,
X是-C(O)N(R5)-或-N(R5)C(O)-;
n是0-4;
該方法包括:
1a)使下式Ⅳ-1化合物
其中A表示R或R4,以及R是鹵素,和R4和R5定義如上,
R5’與R5定義相同,R5和R5’可以彼此獨立,
與下式Ⅴ化合物反應
R1Mghal?Ⅴ
其中R1如上定義,
得到下式Ⅹ-1和Ⅺ-1化合物的混合物
其中取代基定義如上,或者
1a’)使其中A是R的式Ⅳ-1化合物與式Ⅴ化合物和下式Ⅶ化合物在一步中反應
HR4????Ⅶ
其中R4定義如上,
得到下式Ⅵ化合物
其中R1,R4,R5和R5’定義如上,和
1b)將在步驟1a)或1a’)中獲得的式Ⅹ-1、Ⅺ-1或Ⅵ的化合物用氧化劑氧化得到下式Ⅻ或Ⅷ化合物
其中R,R1,R4,R5和R5’定義如上,和
1b’)如果需要,使式Ⅻ化合物與式Ⅶ化合物反應得到式Ⅷ化合物,
和
1c)使式Ⅷ化合物與下式Ⅸ化合物反應
其中R3,R2和R2’定義如上,R是鹵素,得到下式Ⅰ化合物
其中X是-CON(R5)-,
或
2d)將式Ⅷ化合物轉化為下式ⅫⅠ化合物
其中R1和R4定義如上,
和
2e)使式ⅩⅢ化合物反應得到下式ⅩⅣ或ⅩⅤ化合物
其中各取代基定義如上,和
2f)將式ⅩⅣ和ⅩⅤ化合物轉化為下式ⅩⅥ化合物
其中R5是甲基,和
2g)使式ⅩⅥ化合物與下式ⅩⅦ化合物反應
得到下式Ⅰ化合物
其中X是-N(R5)C(O)-并且其它取代基定義如上。
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