[發(fā)明專利]多層膜在線連續(xù)鍍制設(shè)備的工藝布置

無(wú)效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 00122078.0
• 申請(qǐng)日: 2000-08-18
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN1338531A
• 公開(kāi)（公告）日: 2002-03-06
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 許生;顏遠(yuǎn)全;王建峰;范垂禎;李自鵬
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 深圳威士達(dá)真空系統(tǒng)工程有限公司
• 主分類號(hào): C23C14/56
• 分類號(hào): C23C14/56
• 代理公司: 深圳市專利服務(wù)中心
• 代理人: 王雄杰

1.一種多層膜在線連續(xù)鍍制設(shè)備的工藝布置，用于鍍制兩層或兩層以上的薄膜，具有裝片真空室，鍍膜真空室，緩沖真空室和獨(dú)立閥門(mén)裝置，其特征在于：設(shè)備及裝置的工藝布置依次為獨(dú)立閥門(mén)(A)，裝片真空室(1)，獨(dú)立閥門(mén)(B)，過(guò)渡真空室(2)，獨(dú)立閥門(mén)(C)，轉(zhuǎn)換真空室(3)，鍍膜真空室(4)，鍍膜真空室(5)，緩沖真空室(6)，鍍膜真空室(7)，鍍膜真空室(8)，轉(zhuǎn)換真空室(9)，獨(dú)立閥門(mén)(D)，過(guò)渡真空室(10)，獨(dú)立閥門(mén)(E)，卸片真空室(11)和獨(dú)立閥門(mén)(F)，各真空室中配有中間加熱系統(tǒng)和溫度控制系統(tǒng)，鍍膜真空室(4)(5)(7)(8)中配有帶有質(zhì)量流量控制儀的工藝氣體分配系統(tǒng)，鍍膜真空室(6)是一個(gè)高真空隔離氣阱，獨(dú)立閥門(mén)(A)設(shè)在裝片真空室(1)之前，獨(dú)立閥門(mén)(F)設(shè)在卸片真空室(11)之后，獨(dú)立閥門(mén)(B)(C)(D)(E)設(shè)在各真空室之間，系統(tǒng)設(shè)有自控基片小車。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的工藝布置，其特征在于：連續(xù)鍍制的過(guò)程是自動(dòng)基片小車載片自動(dòng)進(jìn)入裝片真空室(10)時(shí)，獨(dú)立閥門(mén)(A)關(guān)閉，啟動(dòng)真空抽氣系統(tǒng)，獨(dú)立閥門(mén)(B)打開(kāi)，基片小車進(jìn)入過(guò)渡真空室(2)后，獨(dú)立閥門(mén)(B)關(guān)閉，當(dāng)基片小車進(jìn)入轉(zhuǎn)換真空室(3)時(shí)，小車由間歇式運(yùn)行轉(zhuǎn)換為連續(xù)式，小車先后進(jìn)入鍍膜真空室(4)(5)(7)(8)時(shí)，分別沉積第1，2，3，4層薄膜，小車進(jìn)入轉(zhuǎn)換真空室(9)后結(jié)束沉積過(guò)程，基片小車在該室由連續(xù)運(yùn)行轉(zhuǎn)換為間歇式，開(kāi)啟獨(dú)立閥門(mén)(D)，小車運(yùn)行到過(guò)渡真空室(10)，關(guān)閉獨(dú)立閥門(mén)(D)，開(kāi)啟獨(dú)立閥門(mén)(E)，小車進(jìn)入卸片真空室(11)，關(guān)閉獨(dú)立閥門(mén)(E)，對(duì)卸片真空室(11)放氣至常壓，開(kāi)啟獨(dú)立閥門(mén)(F)，小車行出真空室回卸片地點(diǎn)卸下鍍膜成品，如此往復(fù)運(yùn)行。