[發明專利]光記錄介質和利用光記錄介質的記錄和/或重放方法及裝置

無效

• 申請號: 00118747.3
• 申請日: 2000-06-23
• 公開（公告）號: CN1287355A
• 公開（公告）日: 2001-03-14
• 發明（設計）人: 山本真伸;安田章夫;佐飛裕一
• 申請（專利權）人: 索尼株式會社;索尼國際(歐洲)有限公司
• 主分類號: G11B7/24
• 分類號: G11B7/24
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所
• 代理人: 王茂華

1．一種光記錄介質，它包括記錄層，記錄層包括一種有機材料，有機材料的分子取向隨偏振光的照射而變化。

2．根據權利要求1的光記錄介質，其中

所說的有機材料的分子取向隨反式-順式重排結構變化而改變；以及

所說的記錄層的雙折射率隨所說的有機材料的分子取向的變化而改變。

3．根據權利要求2的光記錄介質，其中

所說的有機材料是液晶系統的材料。

4．根據權利要求2的光記錄介質，其中

所說的有機材料包括偶氮苯衍生物。

5．根據權利要求1的光記錄介質，其中

對于完全取向時所說的記錄層的雙折射率Δn以及對于重放光的波長λ，記錄層的厚度t不大于λ/2Δn。

6．根據權利要求1的光記錄介質，進一步包括

一個基片，所說的記錄層形成在所說的基片上，在所說的基片面向記錄層的一個側面上有導向凹槽和/或凹坑。

7．根據權利要求6的光記錄介質，進一步包括

形成在所說的基片上的第一介質薄膜；

形成在所說的記錄層上的第二介質薄膜；

形成在所說的第二介質層上的反射膜；

所說的介質薄膜的折射率與基片的折射率不同。

8．根據權利要求7的光記錄介質，進一步包括

形成在所說的反射膜上的保護膜。

9．根據權利要求7的光記錄介質，其中

對于完全取向時所說的記錄層的雙折射率Δn以及對于重放光的波長λ，記錄層的厚度t不大于λ/4Δn，以及

介質薄膜的厚度被設置為：使得在平行于雙折射普通光的軸入射的光和平行于雙折射特殊光的軸入射的光的反射光束之間的相位偏移將接近π。

10．根據權利要求7的光記錄介質，其中

對于完全取向時所說的記錄層的雙折射率Δn以及對于重放光的波長λ，記錄層的厚度t不大于λ/8Δn，以及

介質薄膜的厚度被設置為：使得在平行于雙折射普通光的軸入射的光和平行于雙折射特殊光的軸入射的光的反射光束之間的相位偏移將接近π/2。

11．根據權利要求1的光記錄介質，其中

記錄層的有機材料的分子取向方向被排列為平行于導向凹槽的方向，該狀態是初始化的狀態。

12．一種記錄和/或重放方法，包括步驟：

向包括有機材料的記錄層照射偏振光；在所說的記錄層上記錄信息信號以改變有機材料的分子取向；

以及讀取分子取向改變引起的雙折射率的變化，分子取向隨入射光偏振狀態變化而改變。

13．根據權利要求12的記錄和/或重放方法，其中

進行所說的記錄時使用的光源的波長比所說的讀取時的波長短。

14．根據權利要求12的記錄和/或重放方法，其中

進行記錄使得包括在所說的記錄層內的有機材料的取向程度將有多個級別，以實現多值記錄。

15．根據權利要求12的記錄和/或重放方法，其中

進行記錄使得包括在所說的記錄層內的有機材料的取向角度將有多個級別，以實現多值記錄。

16．根據權利要求12的記錄和/或重放方法，其中

所說的記錄層形成在透明基片上，其中信息信號被從透明基片的側面記錄和/或讀取。

17．一種用于在光記錄介質上記錄或從光記錄介質讀取的記錄和/或重放裝置，所說的光記錄介質具有一個包括有機材料的記錄層，有機材料的分子取向隨偏振光的照射而變化；

所說的裝置包括：

用于在所說的記錄層上照射作為記錄光的預置偏振光的記錄光學系統；和

用于檢測入射在所說的記錄層上的重放光的偏振狀態的重放光學系統系統。

18．根據權利要求17的記錄和/或重放裝置，其中所說的記錄光學系統和所說的重放光學系統分別具有光源，

用于記錄的所說的光源的波長比用于重放的所說的光源的波長短。