[發(fā)明專利]離合器摩擦圓盤平衡法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 00102319.5
• 申請日: 2000-02-12
• 公開（公告）號: CN1263012A
• 公開（公告）日: 2000-08-16
• 發(fā)明（設計）人: M·L·巴塞特;G·W·巴特爾頓;A·P·斯扎科夫斯基
• 申請（專利權(quán)）人: 易通公司
• 主分類號: B60K17/02
• 分類號: B60K17/02;F16D11/00
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司
• 代理人: 蔡民軍,黃力行

1.一種平衡具有一個載體盤的離合器圓盤的方法，所述離合器圓盤帶有固定在載體盤相應側(cè)的摩擦襯片，所述方法包括：

測量離合器圓盤的不平衡狀態(tài)；

確定一個或多個平衡塊的尺寸和形狀；

從載體盤分開至少一個摩擦襯片；

將所述平衡塊嵌入在所述載體盤中形成的一個或多個相應的平衡空洞中；以及

使所述摩擦襯片重新附著在載體盤上；

2.一種平衡具有一個載體盤的離合器圓盤的方法，所述離合器圓盤帶有固定在載體盤相應側(cè)的第一和第二摩擦襯片，所述方法包括：

測量具有許多在上面形成的平衡空洞的載體盤不平衡狀態(tài)；

測量第一摩擦襯片的不平衡狀態(tài)；

測量第二摩擦襯片的不平衡狀態(tài)；

確定在載體盤和第一、第二摩擦襯片兩者之間的相關最佳轉(zhuǎn)動方位；

根據(jù)平衡空洞位置、載體盤不平衡狀態(tài)、第一和第二摩擦襯片不平衡狀態(tài)以及第一、第二摩擦襯片相對于載體盤的最佳轉(zhuǎn)動方位，確定一個或多個平衡塊的尺寸和形狀；

將平衡塊嵌入相應的平衡空洞；以及

將第一和第二摩擦襯片固定在載體盤的相應側(cè)面。

3.根據(jù)權(quán)利要求2的離合器圓盤平衡法，其特征為，進一步包括在嵌入平衡塊之前將第一摩擦襯片固定在載體盤上的步驟。

4.一種離合器圓盤，它具有許多圍繞所述離合器圓盤的一個周邊呈“U”形隔開的平衡空洞，其中所述平衡空洞在增加離開所述離合圓盤轉(zhuǎn)動中心的徑向距離時具有減少的橫截面面積。